COMPOL LiTaO3、LiNbO3、サファイア等の電子材料基盤、金属材料及びセラミックスのポリシング専用に開発された高純度コロイダルシリカスラリーです。 特徴 粒子の均一性、分散性に優れ、高能率でダメージフリーの研磨面が得られます。 用途 LiTaO3、LiNbO3、サファイア等の電子材料基盤、金属材料及びセラミックスのポリシング